磁控濺射儀/噴金儀的使用原理分析

發(fā)布日期：2023-04-10      瀏覽次數(shù)：1954

磁控濺射儀/噴金儀的使用原理分析

磁控濺射儀是一種利用物理氣相沉積的方法在非導(dǎo)電或?qū)щ姴涣嫉臉悠飞贤坎冀穑ˋu），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）薄膜的設(shè)備，常用于掃描電鏡（SEM）的樣品制備以及電極制備。它可在較短時(shí)間內(nèi)形成具有細(xì)粒度的均勻薄膜，最常見的靶材是金靶，所以磁控濺射儀也俗稱“噴金儀"。

在封閉腔室中，放置陽(yáng)極靶材，充入氣體，保持一定的真空度，在陽(yáng)極和陰極之間加載高壓，會(huì)發(fā)生輝光放電現(xiàn)象。電離的氣體離子會(huì)轟擊、侵蝕陽(yáng)極靶材。靶材原子會(huì)因此向四周擴(kuò)散，并在樣品上沉積，最終在樣品表面形成一個(gè)均勻的鍍層。這個(gè)鍍層可以抑制荷電，減小熱損傷，提高二次電子產(chǎn)率，從而改善掃描電鏡觀察效果。



該設(shè)備專用于貴金屬薄膜涂層，用于SEM觀察。 該裝置進(jìn)行貴金屬涂層，以防止SEM樣品充電并提高二次電子生成的效率。 除了使用磁控管靶電極進(jìn)行低壓放電外，樣品臺(tái)是浮動(dòng)的，減少了電子束流入造成的樣品損壞。 操作簡(jiǎn)單，只需按一下按鈕，就沒有技巧。 它很小，不占用太多空間。 它在桌子的角落很有用。
用途

用于 SEM 樣品的金屬涂層設(shè)備。

特點(diǎn) 

●磁控型濺射，采用較低外加電壓減輕樣品的離子損傷。 

●真空度調(diào)節(jié)：適合磁控離子濺射的真空度是 6-8Pa,MSP-1S 通 過機(jī)械泵抽泣與泄露閥漏氣的平衡，使樣品倉(cāng)自動(dòng)保持在適合的 真空度范圍內(nèi)，不需要手動(dòng)做壓力調(diào)整。 

●浮動(dòng)樣品臺(tái)設(shè)計(jì)：樣品臺(tái)是浮動(dòng)型并與樣機(jī)電機(jī)絕緣，可讓電子 不通過樣品而使溫度上升很少。 

●占地面積：臺(tái)式設(shè)計(jì)，內(nèi)置機(jī)械泵，只需要有 20cm×40cm 的占 地面積，重量只有 14.6Kg。